首次在商业晶圆厂安装高数值孔径EUV光刻机

英特尔首套商用High-NA EUV光刻系统

美国俄勒冈州希尔斯伯勒英特尔Fab D1X研发晶圆厂

英特尔于2024年在美国俄勒冈州希尔斯伯勒研发厂区完成业内首套商用高数值孔径EUV光刻系统安装。