纪录 #00365科技档案
首次在商业晶圆厂安装高数值孔径EUV光刻机
英特尔于2024年在美国俄勒冈州希尔斯伯勒研发厂区完成业内首套商用高数值孔径EUV光刻系统安装。
档案图示 / 01
非按比例绘制
概述
档案注记ASML TWINSCAN EXE:5000采用0.55数值孔径，相比上一代0.33数值孔径EUV设备提升光学分辨能力。
英特尔在2024年4月宣布该设备已安装并进入校准阶段；ASML于2026年再次确认其行业首次地位。
纪录历史
1 个里程碑- 首次达成英特尔首套商用High-NA EUV光刻系统美国俄勒冈州希尔斯伯勒英特尔Fab D1X研发晶圆厂首次达成
数据来源
证据与参考资料核实依据与局限
已核实纪录结论已有充分核实依据。
依据类别：权威机构直接确认
英特尔与ASML直接确认2024年首次安装商用High-NA EUV系统。
- 核实等级评审
- 2026-11-05
- 最后审核
- 2026-11-05
当前条目表示本档案所列的当前 Entry，不表示已证明其今天仍保持纪录。
本页纪录值依据以上公开资料整理。不同机构可能采用不同测量口径，JiLuDB 按条目说明中的统一口径进行记录。
公开反馈发现数据问题？如果你发现事实变化、数据错误或更权威的来源，可以提交反馈。提交反馈
帮助我们保持档案准确
如果你发现事实变化、数据错误或更权威的来源，请留下说明。反馈只会进入管理员核查流程，不会直接修改纪录。