实体档案英特尔首套商用High-NA EUV光刻系统物体 · 半导体制造设备2024年安装的首套商用高数值孔径EUV设备。类型物体别名ASML TWINSCAN EXE:5000相关纪录1相关纪录共 1 条首次在商业晶圆厂安装高数值孔径EUV光刻机 ↗完成者首次达成2024年4月1